Lox rastlina 85 tpd

Rastlina 85 TPD (tone na dan) Lox (tekoči kisik) je objekt, ki je zasnovan za proizvodnjo 85 ton tekočega kisika na dan.

LOX Plant 85 TPD tehnologija in proces

Kriogena destilacija: to je najpogosteje uporabljena tehnologija. Najprej se zrak stisne in ohladi na izjemno nizke temperature, dokler ne utekočini. Nato se s postopkom destilacije v destilacijskem stolpu kisik loči in očisti, da dobimo tekoči kisik, tako da izkoristi različne vrelišča kisika, dušika in drugih komponent v zraku.

Konfiguracija opreme

Sistem stiskanja zraka:Sestavljen je iz zračnega filtra za odstranjevanje nečistočev prahu v zraku in zračnega kompresorja, da stisne zrak na potreben tlak.
Čistilni sistem:Običajno vključuje molekularni sito adsorber za odstranjevanje nečistoč, kot so vodna paro, ogljikov dioksid, ogljikovodiki itd. V zraku, da preprečijo, da bi v nizkotemperaturnih okoljih zamrznili ali zamašili cevovode.
Hladilni sistem:Za doseganje utekočinjanja uporablja komponente, kot so turboexpanders za ohlajanje zraka s širitvijo plina. Uporablja tudi talle ventile za ustvarjanje hladilnega učinka s pomočjo širjenja.
Sistem destilacije:Jedro tekočega kisikovega rastline, ki je sestavljeno iz visokotlačnih in nizkotlačnih destilacijskih stolpov, ločuje in očisti zrak z večkratnimi postopki izhlapevanja in kondenzacije, da se pridobi tekoči kisik z visoko čistostjo.
Tekoči sistem za shranjevanje in prevoz kisika:vključno z rezervoarji za shranjevanje tekočih kisika za shranjevanje proizvedenega tekočega kisika; vaporizerji za izhlapevanje tekočega kisika v plinasto kisik, kadar je to potrebno; in črpalke in cevovode za prevoz tekočega kisika.

Lox Plant 85 TPD naložbe in stroški

Naložbena lestvica:Naložbena lestvica 85TPD tekočega kisikovega naprave je razmeroma velika, na splošno sega od več deset do sto milijonov milijonov RMB, odvisno od dejavnikov, kot so izbira opreme, procesna tehnologija in razmere na mestu.
Stroški poslovanja:V glavnem vključuje porabo energije opreme, stroške vzdrževanja opreme, stroške dela in stroške surovin (predvsem zrak). Velika poraba energije je zato, ker kriogeni postopek destilacije potrebuje veliko energije, da se zrak stisne in ohladi.

Povpraševanje na trgu in aplikacija

Industrijsko polje:Široko se uporablja na industrijskih poljih, kot sta jeklarstvo in proizvodnja kemikalij. Pri izdelavi jekla se tekoči kisik uporablja za izboljšanje učinkovitosti zgorevanja goriva in izboljšanje kakovosti jekla; V kemični industriji se uporablja za procese, kot so oksidacijske reakcije.
Medicinsko področje:Tekoči kisik z visoko čistomo je pomemben medicinski plin, ki se uporablja za bolnišnično terapijo s kisikom, dihalno podporo itd., Uporablja pa se tudi za proizvodnjo izdelkov, kot so medicinski kisik.
Vesoljsko polje:Tekoči kisik je pomemben oksidant za raketne motorje in se pogosto uporablja v vesoljski industriji.